Un nouveau matériau isolant utilisé pour les câbles coaxiaux vient d'être développé et permettrait d'améliorer de plus de 25 % la vitesse de transfert de données.
Tri Chemical Laboratories et le professeur Hiroshi Nakayama de l'université d'Osaka ont conjointement développé le produit et espèrent pouvoir le commercialiser d'ici 2 ou 3 ans. Le matériau est composé d'un alliage de carbone silicium et servirait à remplir l'espace qui se trouve entre les différentes couches qui composent le câble. Sa constante diélectrique est de 3,01 à comparer au 3,9 de la couche d'oxyde de silicium, ce qui signifie qu'il faciliterait le transfert du signal électrique à travers le câble. Afin de fabriquer le film, l'équipe de chercheurs a utilisé une méthode catalytique de déposition par vapeur chimique (CVD). Auparavant, la méthode plasma CVD était utilisée sous une température de 800 °C, aboutissant à des dommages sur le substrat.
La méthode CVD catalytique est utilisée à 400 °C, réduisant ainsi les possibilités de dommages. Par ailleurs, la vitesse de laminage est de seulement 0,4 µm/min, soit 10 fois plus rapide que les méthodes conventionnelles. Les chercheurs travaillent actuellement sur le développement d'un film isolant possèdant une plus basse constante électrique.
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